论文成果

BEOL-Compatible Atomic-Layer-Deposited In-rich InGaO TFTs with High Positive-Gate-Bias-Stress Stability

发布时间:2023-04-04
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发表刊物:
IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference
备注:
J Zhang, Z Zhang, D Zheng, A Charnas, Z Lin, and P. D. Ye
是否译文:
发表时间:
2022-01-01

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