Fabrication of a polycrystalline SiGe- and Ge-on-insulator by Ge condensation of amorphous SiGe on a SiO2/Si substrate
发布时间：2023-04-04
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- 2.048
- 发表刊物：
- Semiconductor Science and Technology
- 备注：
- G Lin, D Liang, Z Huang, C Yu, P Cui, J Zhang, J Wang, J Xu, S Chen, C Li, Y Zeng
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2020-01-01
