Highly Gate-Bias-Stress Stable Atomic-Layer-Deposited InZnO TFTs with BEOL-Compatibility
发布时间：2023-04-04
点击次数：
- 发表刊物：
- IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference
- 备注：
- .D Zheng, A Charnas, H Dou, Z Hu, J Zhang, H Wang, and P. D. Ye
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2022-01-01
