二维超宽禁带材料深紫外光电成像

本方向聚焦深紫外探测与成像在空间通信、环境监测及高端制造等领域的应用需求，围绕二维超宽禁带材料体系开展新型光电器件与成像技术研究。

系统开展二维超宽禁带材料的生长调控、异质结设计与器件物理研究，发展高性能深紫外探测器及阵列器件，推动从单器件验证向成像系统集成的跨越，提升器件灵敏度、选择性与响应速度。

重点研究：

·       二维超宽禁带材料生长与结构调控

·       深紫外探测器件设计与物理机制研究

·       低噪声、高响应、窄带选择性探测

·       深紫外阵列器件与成像系统验证

·       新型光电芯片架构探索