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晶圆级单晶六方氮化硼(hBN)生长
发布时间:2026-04-15
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说明:
围绕六方氮化硼(hBN)晶圆级单晶薄膜的发展,重点研究hBN的低密度成核、单一取向生长、晶畴无缝拼接、层数与堆垛结构调控,以及单晶金属和合金催化衬底构筑。通过优化前驱体反应、表面催化过程和晶圆尺度温场、流场分布,发展高质量、低缺陷、高均匀性的晶圆级hBN可控制备技术,为二维电子学、范德华异质结构、超薄介电层、量子器件及先进半导体集成提供材料基础。
下一条:
低温无转移直接生长与片上集成