Controlled charging of ferroelastic domain walls in oxide ferroelectrics
发布时间：2023-11-06
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- 影响因子：
- 9.5
- DOI码：
- 10.1021/acsami.6b13821
- 发表刊物：
- ACS Applied Materials & Interfaces
- 刊物所在地：
- UNITED STATES
- 合写作者：
- Xiankui Wei*, Tomas Sluka;B. Fraygola, L. Feigl, H. Du, L. Jin, C.L. Jia, N. Setter
- 论文编号：
- 20
- 卷号：
- 9
- 期号：
- 7
- 页面范围：
- 6539-6546
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2017-01-01
