Preferential creation of polar translational boundaries by interface engineering in antiferroelectric PbZrO3 thin films
发布时间：2023-11-06
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- 影响因子：
- 5.4
- DOI码：
- 10.1002/admi.201500349
- 发表刊物：
- Advanced Materials Interfaces
- 刊物所在地：
- GERMANY
- 合写作者：
- Xiankui Wei*; Kaushik Vaideeswaran, Cosmin S. Sandu, Chun-Lin Jia, Nava Setter
- 论文编号：
- 15
- 卷号：
- 2
- 期号：
- 18
- 页面范围：
- 1500349
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2015-01-01
